一項名為“極紫外輻射發(fā)生裝置及光刻設(shè)備”的發(fā)明專利，內(nèi)容涉及極紫外輻射（EUV）發(fā)生裝置及光刻設(shè)備，申請者為上海微電子裝備（集團）股份有限公司。

EUV光刻技術(shù)是一種先進的芯片制造技術(shù)，可以在半導(dǎo)體晶圓上繪制極其精細的電路，從而生產(chǎn)出更小、更強大的芯片。這項技術(shù)使用極紫外光（EUV）作為光源，比傳統(tǒng)光刻技術(shù)能實現(xiàn)更高的精度。擁有EUV光刻技術(shù)專利意味著掌握了制造7納米及以下芯片的關(guān)鍵能力。

據(jù)相關(guān)報道，上海微電子此次披露的專利主要涉及EUV 光源和光刻設(shè)備，其中重點的極紫外輻射發(fā)生器（光源）主要包括腔體、靶材發(fā)生器、激光發(fā)生器、收集鏡、電極板、氣控部件等關(guān)鍵部件。

這一消息也引起了德國科技時政類媒體Telepolis的關(guān)注。該媒體近日發(fā)表報道稱，中國在芯片領(lǐng)域正在迎頭趕上。

報道作者認為，中國的技術(shù)進步幾乎勢不可擋。中國光刻設(shè)備市場99%的份額由荷蘭阿斯麥（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有阿斯麥生產(chǎn)7納米以下芯片的設(shè)備。然而，阿斯麥在為中國客戶提供服務(wù)方面面臨壓力，中國是其僅次于臺灣的第二大市場。根據(jù)2023年年報，阿斯麥僅能滿足中國訂單的50%。據(jù)《南華早報》報道，自9月6日起，阿斯麥在中國提供零部件、軟件更新和系統(tǒng)維護需要獲得荷蘭許可證。此前，需在美國獲得出口許可。

制裁——與國家安全無關(guān)？

美國希望限制中國在計算機芯片領(lǐng)域的發(fā)展，聲稱國家安全受到威脅，因為中國也能夠?qū)⒂嬎銠C芯片用于人工智能和軍事目的。Telepolis的報道指出：阿斯麥首席執(zhí)行官克裡斯托弗·福克特（Christophe Fouquet）曾經(jīng)表示，華盛頓所關(guān)心的僅在有限范圍內(nèi)涉及國家安全。這些限制“主要出于經(jīng)濟原因”，并且“越來越難以辯稱這與國家安全有關(guān)”。

荷蘭和日本作為當今世界主要的連個芯片制造設(shè)備來源國，備受美國政府的關(guān)注。華盛頓已經(jīng)敦促限制向中國供應(yīng)各種芯片制造相關(guān)技術(shù)。但兩國對此并不積極，導(dǎo)致白宮發(fā)出威脅，稱如果海牙和東京不配合，將考慮實施最嚴厲的貿(mào)易限制措施。

根據(jù)中國媒體的報道，中國的通訊設(shè)備公司華為最新推出的Mate XT三折疊屏手機采用的麒麟9000處理器基于5納米工藝制成。這也表明盡管備受國際制裁，中國企業(yè)仍然有能力生產(chǎn)出7納米以下的先進芯片。但與此同時，也有分析人士認為華為和其合作伙伴找到了規(guī)避芯片設(shè)備出口管制的渠道，目前還沒有壓倒性證據(jù)表明華為擁有這些關(guān)鍵技術(shù)的完全本土供應(yīng)鏈。